Waarom kan silikondioksied nanopoeier vir CMP gebruik word?

Nano-silika het relatief lae koste, en goeie verspreibaarheid, meganiese skuur, hoë sterkte en adhesie, goeie filmvorming, hoë deurlaatbaarheid, hoë weer- en slytasieweerstand, klein deeltjiegrootte, hardheid.Dit het ook die voordele van matige, lae viskositeit, lae adhesie en maklike skoonmaak na polering.Dit is dus 'n poleermateriaal vir CMP-tegnologie met uitstekende werkverrigting.

SiO2 nanopartikel word dikwels gebruik vir presisie polering van metaal, saffier, monokristallyne silikon, glaskeramiek, liggeleidebuis en ander oppervlaktes.Die grootte van nano-silikonoksied is onder 100nm, wat 'n groot spesifieke oppervlak, hoë verspreibaarheid en deurlaatbaarheid het, sodat die skadelaag op die oppervlak van die gepoleerde werkstuk uiters klein is;boonop is die hardheid van silika-nanopartikels soortgelyk aan dié van silikonwafels.Daarom word dit ook dikwels gebruik vir die polering van halfgeleier-silikonwafels.

Die voordele van nano SiO2-poeier in CMP-toepassing:

1. Polering is die gebruik van eenvormige nanopartikels van SiO2 en ander materiale, wat nie fisiese skade aan die verwerkte dele sal veroorsaak nie, en die spoed is vinnig.Die gebruik van deeltjies soos kolloïdale silika met eenvormige en groot deeltjiesgrootte kan die doel van hoëspoedpolering bereik.

2. Dit korrodeer nie toerusting nie en het hoë veiligheidsprestasie.

3. Bereik hoë vlakheid slyp verwerking.

4. Verminder die oppervlakskrape effektief na polering en verminder die oppervlakruwheid na polering.