የሴሪየም ዳይኦክሳይድ/ሲኦ2 ናኖፓርቲክል አጠቃቀም፡-

(1) ሴሪክ ዳይኦክሳይድ ናኖፖውደር ለጽዳት፡- ናኖ ሴሪየም ኦክሳይድ በአሁኑ ጊዜ ለመስታወት መጥረጊያ በብዛት ጥቅም ላይ የሚውለው መጥረጊያ ነው።የመስታወት እና የኦፕቲካል ክፍሎችን በትክክል በማቀነባበር በስፋት ጥቅም ላይ የዋለ እና በስፋት ጥናት ተደርጓል.በፖሊሺንግ ዱቄት ውስጥ ያለውን የማጥራት ውጤት የሚጎዳው የ CeO2 ቅንጣት፣ ንፅህና እና ጥንካሬ ነው።የንጥሉ መጠን ዋናው ምክንያት ነው.ትልቁ ቅንጣት መጠን ተራ የጨረር ክፍሎች እና መነጽር ሌንሶች ለመቀባት ተስማሚ ነው, ትንሽ ቅንጣት መጠን ጥሩ የጨረር ሌንሶች ከፍተኛ-ፍጥነት መልካቸውም ተስማሚ ነው ሳለ.

ለምሳሌ፡- መስታወት በጣም የተለመደው እና መሰረታዊ የኢንኦርጋኒክ ቁሳቁስ እንደመሆኑ መጠን በብዕር ማስታወሻ ደብተር ኮምፒውተር ሃርድ ዲስክ መስታወት ተተኪዎች፣ ዲጂታል ካሜራ ቺፕስ፣ እጅግ በጣም ትክክለኛ የጨረር ሌንሶች፣ የኦፕቲካል ዊንዶውስ እና ሌሎች የኦፕቲካል ክፍሎች፣ እንዲሁም የኦፕቲካል ኮሙኒኬሽን ክፍሎች በስፋት ጥቅም ላይ ይውላል። ጠፍጣፋ ፓነል እና ሌሎች የላቁ ኤሌክትሮኒክስ።እጅግ በጣም ለስላሳ፣ ንኡስ ናኖሜትር ሸካራነት፣ ጠፍጣፋ የመስታወት ወለል ያለ ማይክሮ-ጉድለት ከከፍተኛ የቴክኖሎጂ ምርቶች አፈጻጸም ጋር የተያያዘ አስፈላጊ ነገር ሆኗል።ኬሚካላዊ ሜካኒካል ፖሊንግ (ሲኤምፒ) የሲሊኮን ቫፈር ማቀነባበሪያ እና የተቀናጁ ወረዳዎችን በማምረት አጠቃላይ የማስቀመጫ እና የማሳከክ ሂደት አስፈላጊ አካል ነው።በሲኤምፒ ዝቃጭ ውስጥ የሚገኙትን የአልትራፊን አብረቅራቂ ቅንጣቶች ሜካኒካል የማጥራት ውጤት እና የዝገቱ ኬሚካላዊ የዝገት ውጤት ይጠቀማል።የኦፕቲካል ዲስኩ የወረዳው ንድፍ በተሰራበት የሲሊኮን ቫፈር ላይ በጣም ጠፍጣፋ መሬት ይፈጥራል።በአሁኑ ጊዜ በ VLSI ወረዳዎች የማምረት ሂደት ውስጥ ዓለም አቀፋዊ ጠፍጣፋ መስጠት የሚችል አዲስ ቴክኖሎጂ ነው።

(2) ናኖ-ሴሪየም ዳይኦክሳይድ ለካታላይት ጥቅም ላይ የሚውለው ጥሩ አፈጻጸም አለው።ሴሪየም ኦክሳይድ ናኖፖውደር ልዩ የኦክስጂን ማከማቻ እና የኦክስጂን መልቀቂያ ተግባራት ብቻ ሳይሆን እጅግ በጣም ንቁ በሆነው የምድር ኦክሳይድ ተከታታዮች ውስጥ በጣም ንቁ የኦክሳይድ ማነቃቂያ ነው።ስለዚህ, nano ceria ብዙ ጊዜ የካታሊስት አፈፃፀምን ለማሻሻል እንደ ረዳት ወኪል ሊያገለግል ይችላል.

(3) በአረብ ብረት ኢንዱስትሪ ውስጥ ጥቅም ላይ የሚውለው ሴሪክ ኦክሳይድ ናኖ ቅንጣት፡- ናኖ-ሴሪየም ኦክሳይድን እንደ ሽፋን እና ተጨማሪነት በመጠቀም ከፍተኛ የሙቀት መጠን ውህዶችን እና አይዝጌ ብረትን የኦክሳይድ መቋቋም ፣የሙቅ ዝገትን ፣የውሃ ዝገትን እና የቫልካናይዜሽን ባህሪያትን ያሻሽላል እንዲሁም ሊሆን ይችላል ለዳክቲክ ብረት እንደ ማከሚያ ጥቅም ላይ ይውላል.

(4) ሴሪየም ኦክሳይድ ናኖ ዱቄት በአልትራቫዮሌት መምጠጫ ምርቶች ውስጥ ጥቅም ላይ ሊውል ይችላል ምክንያቱም ናኖ CeO2 የተትረፈረፈ የኤሌክትሮኒክስ ሽግግር የኢነርጂ ደረጃ አለው፣ ለአልትራቫዮሌት ብርሃን ለመምጥ እጅግ በጣም ጥሩ የኦፕቲካል ስሜታዊነት።ከአነስተኛ መጠን ተጽእኖ፣ ከፍ ያለ የገጽታ ውጤት እና የናኖፓርቲክል ማክሮስኮፒክ ኳንተም ውጤት ጋር ተዳምሮ CeO2 nano በአልትራቫዮሌት ብርሃን ላይ ጠንካራ መበታተን እና ነጸብራቅ ተጽእኖ አለው።ከዚህም በላይ CeO2 ጥሩ የሙቀት መረጋጋት፣ ደህንነት እና መርዛማነት የሌለው፣ የተትረፈረፈ ሃብት እና ዝቅተኛ የዝግጅት ወጪ ስላለው በተለያዩ መስኮች የሚተገበር አዲስ የአልትራቫዮሌት መምጠጥ ይሆናል ተብሎ ይጠበቃል።