Si3N4 е нов тип високотемпературен структурен керамичен материал с отлични химични свойства, добра устойчивост на термичен удар, пълзене при ниска температура, ненамокряне с различни стопилки от цветни метали, висока твърдост, самосмазване, широко се използва в режещи инструменти, металургията, авиацията, химическата и други индустрии.

Силициевият нитрид може да се приложи и към тънкослойни слънчеви клетки.След като филмът от силициев нитрид е покрит по метода PECVD, не само може да се намали отражението на падащата светлина, но също така, в процеса на отлагане на филма от силициев нитрид, водородните атоми на реакционния продукт влизат във филма от силициев нитрид и силиконова пластина за пасивиране Ролята на дефектите.