Si3N4 হল একটি নতুন ধরনের উচ্চ তাপমাত্রার গঠন সিরামিক উপাদান যার চমৎকার রাসায়নিক বৈশিষ্ট্য, ভাল তাপ শক প্রতিরোধ ক্ষমতা, কম তাপমাত্রার ক্রীপ, বিভিন্ন ধরনের অ লৌহঘটিত ধাতু গলে যাওয়া, উচ্চ কঠোরতা, স্ব-তৈলাক্তকরণ, ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়েছে কাটার সরঞ্জাম, ধাতুবিদ্যা, বিমান চালনা, রাসায়নিক এবং অন্যান্য শিল্প।

সিলিকন নাইট্রাইড পাতলা-ফিল্ম সোলার সেলগুলিতেও প্রয়োগ করা যেতে পারে।সিলিকন নাইট্রাইড ফিল্ম PECVD পদ্ধতিতে প্রলেপ দেওয়ার পরে, শুধুমাত্র ঘটনা আলোর প্রতিফলনই কমানো যায় না, তবে সিলিকন নাইট্রাইড ফিল্মের জমা প্রক্রিয়ায়, বিক্রিয়া পণ্যের হাইড্রোজেন পরমাণু সিলিকন নাইট্রাইড ফিল্মে প্রবেশ করে এবং নিষ্ক্রিয় করতে সিলিকন ওয়েফার ত্রুটির ভূমিকা.