0,3-0,5um 99,9% prah silicijum nitrida mikro 300nm-500nm
0,3-0,5 um prah silicijum nitrida
specifikacija:
| Kod | L560 |
| Ime | Silicijum nitrid u prahu |
| Formula | Si3N4 |
| CAS br. | 12033-89-5 |
| Veličina čestica | 0,3-0,5um |
| Čistoća | 99,9% ili 99,99% |
| Crystal Type | Alpha |
| Izgled | Bijeli prah |
| Paket | 1 kg ili po potrebi |
| Potencijalne aplikacije | Koristi se kao sredstvo za otpuštanje kalupa za polikristalni silicijum i monokristalni silikonski kvarcni lončić; koristi se kao napredni vatrostalni materijal; koristi se u tankoslojnim solarnim ćelijama; itd. |
Opis:
Si3N4 je nova vrsta keramičkog materijala visoke temperature sa odličnim hemijskim svojstvima, dobrom otpornošću na toplotni udar, puzanjem na niskim temperaturama, nekvašenjem do raznih talina obojenih metala, visoke tvrdoće, samopodmazivanja, naširoko se koristi u rezni alat, metalurgija, avijacija, hemijska i druge industrije.
Silicijum nitrid se takođe može primeniti na tankoslojne solarne ćelije. Nakon što se film silicijum nitrida obloži metodom PECVD, ne samo da se može smanjiti refleksija upadne svetlosti, već i, u procesu taloženja filma silicijum nitrida, atomi vodika produkta reakcije ulaze u film silicijum nitrida i silicijumske pločice za pasiviranje Uloga defekata.
Uvjeti skladištenja:
Silicijum nitrid u prahu treba čuvati na zatvorenom, izbegavati svetlo i suvo mesto. Čuvanje na sobnoj temperaturi je u redu.
SEM :
