Spezifikation von Aluminiumnitrid-Nanopulver
Partikelgröße: 40 nm, 100 nm, 1–2 µm, 5–10 µm
Reinheit: 99,9 %, 99,5 %+, 99 %
Anwendung vonAluminiumnitrid-Nanopulver
1. Aluminiumnitrid (AlN)-Keramik mit hoher Wärmeleitfähigkeit, niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizienten, hoher Beständigkeit und anderen Eigenschaften sowie guten mechanischen Eigenschaften gilt als die nächste Generation von Hochleistungskeramiksubstraten und bevorzugten Verpackungsmaterialien. 2. Aluminiumnitrid-Nanopulver hat zwei großartige wichtige Eigenschaften: Zum einen ist es eine hohe Wärmeleitfähigkeit und zum anderen ist es ein an Si angepasster Ausdehnungskoeffizient.Der Nachteil besteht darin, dass selbst eine sehr dünne Oberflächenoxidschicht Auswirkungen auf die Wärmeleitfähigkeit der Materialien und Prozesse hat, die nur streng kontrolliert werden können, um eine bessere Konsistenz der AlN-Substrate zu erreichen.AlN ist immer noch eine unausgereifte inländische Produktionstechnologie in großem Maßstab. Im Vergleich zu Al2O3 ist AlN viel teurer, was einen Engpass darstellt, der seine Entwicklung einschränkt.Aus diesen Gründen können Sie wissen, dass Aluminiumoxidkeramik eine überlegene Gesamtleistung aufweist, da sie im aktuellen Bereich der Mikroelektronik, Leistungselektronik, Hybridmikroelektronik oder Leistungsmodule eine beherrschende Stellung einnimmt und weit verbreitet ist.3.AlNNanopulverkeramik mit hoher thermischer Leistung für Hochleistungshalbleitersubstrate, der Prozess der natürlichen Abkühlung in der Wärme, um ihre Ziele zu erreichen, verfügt aber auch über eine gute mechanische Festigkeit und hervorragende elektrische Eigenschaften.Obwohl die inländische Fertigungstechnologie verbessert werden muss, ist der Preis teurer, aber seine jährliche Wachstumsrate beträgt mehr als das Vierfache von Al2O3-Keramik, BeO und kann später durch eine Reihe von Nichtoxidkeramiken ersetzt werden.Die Verwendung von AlN-Keramik-Wärmedämmplatten ist ein allgemeiner Trend, es gibt jedoch Zeit- und Kostenprobleme.
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