Γιατί μπορεί να χρησιμοποιηθεί νανοσκόνη διοξειδίου του πυριτίου για CMP;

Το νανο-πυρίτιο έχει σχετικά χαμηλό κόστος και καλή διασπορά, μηχανική τριβή, υψηλή αντοχή και πρόσφυση, καλό σχηματισμό φιλμ, υψηλή διαπερατότητα, υψηλή αντοχή στις καιρικές συνθήκες και στη φθορά, μικρό μέγεθος σωματιδίων, σκληρότητα.Έχει επίσης τα πλεονεκτήματα του μέτριου, χαμηλού ιξώδους, χαμηλής πρόσφυσης και εύκολου καθαρισμού μετά το γυάλισμα.Έτσι είναι ένα γυαλιστικό υλικό για τεχνολογία CMP με εξαιρετική απόδοση.

Το νανοσωματίδιο SiO2 χρησιμοποιείται συχνά για γυάλισμα ακριβείας μετάλλου, ζαφείριου, μονοκρυσταλλικού πυριτίου, υαλοκεραμικών, ελαφρού σωλήνα οδηγού και άλλων επιφανειών.Το μέγεθος του νανοξειδίου του πυριτίου είναι κάτω από 100 nm, το οποίο έχει μεγάλη ειδική επιφάνεια, υψηλή διασπορά και διαπερατότητα, επομένως το στρώμα ζημιάς στην επιφάνεια του γυαλισμένου τεμαχίου εργασίας είναι εξαιρετικά μικρό.Επιπλέον, η σκληρότητα του νανοσωματιδίου πυριτίου είναι παρόμοια με αυτή των πλακιδίων πυριτίου.Ως εκ τούτου, χρησιμοποιείται επίσης συχνά για τη στίλβωση γκοφρετών πυριτίου ημιαγωγών.

Τα πλεονεκτήματα της σκόνης nano SiO2 στην εφαρμογή CMP:

1. Γυάλισμα είναι η χρήση ομοιόμορφων νανοσωματιδίων SiO2 και άλλων υλικών, τα οποία δεν θα προκαλέσουν φυσική ζημιά στα επεξεργασμένα μέρη και η ταχύτητα είναι γρήγορη.Η χρήση σωματιδίων όπως το κολλοειδές πυρίτιο με ομοιόμορφο και μεγάλο μέγεθος σωματιδίων μπορεί να επιτύχει το σκοπό του γυαλίσματος υψηλής ταχύτητας.

2. Δεν διαβρώνει τον εξοπλισμό και έχει υψηλή απόδοση ασφάλειας.

3. Επίτευξη επεξεργασίας λείανσης υψηλής επιπεδότητας.

4. Μειώστε αποτελεσματικά τις επιφανειακές γρατσουνιές μετά το γυάλισμα και μειώστε την τραχύτητα της επιφάνειας μετά το γυάλισμα.