Al2O3 nanohauts alfa esferikoak silikona eroale termikorako

Bere biskositate ona, malgutasuna, konpresio-errendimendu ona eta eroankortasun termiko bikaina direla eta, silize-gel termiko eroalea sarritan erabiltzen da tresna elektrikoen IC substratuetarako, hala nola komunikazio-ekipoen eta ordenagailuen IC substratuetarako. Termikoki eroale ez-metalikoko isolatzaile arrunta. hauts betegarrien artean, aluminio nitruroa, aluminio oxidoa, zink oxidoa, berilio oxidoa, silizio oxidoa, silizio karburoa, boro nitruroa, etab. Horien artean, aluminioak isolamendu propietate onak ez ezik, bere eroankortasun termikoa ere ez da baxua (tenperatura normalaren eroankortasun termikoa). 30W/m·K da), eta oso erabilia izan da isolamendu-produktuetan tentsio handiko eta UHV etengailuen alorrean.

Eroankortasun termiko handiko alumina partikulek kristalintasun eta trinkotasun maila handia izan behar dute.Alfa-faseko aluminak egitura hexagonala du, alumina aldaera ezberdinen artean egitura trinkoena dena.Ikerketek frogatu dute alumina-hautsaren alfa fasea zenbat eta altuagoa izan, kristalak guztiz kristal bakarrekoak eta partikula esferikoak direla, eta kristal-plano batzuk daudela.Silice-gelez betetakoan, lerro-kontaktu eta azalera jakin bat agertuko da partikulak partikularekin kontaktuan daudenean.Kontaktua, beraz, silize gelaren eroankortasun termikoa asko hobetu daiteke.