99.99% 50nm nanopoud In2O3 Endyòm oksid nano poud pri

Deskripsyon pwodwi:

In2O3 nano spesifikasyon poud:

Gwosè patikil: 50nm

Pite: 99.99%

Sifas espesifik: 20-30m²/g

Koulè: Limyè jòn

MOQ: 100g

Stock: Stock pare

Kalite: Industrail klas, bon jan kalite 100% garanti.

Pwopriyete fizik:

1. Pwopriyete: limyè jòn poud amorphe, ki chanje nan wouj mawon apre chofaj.

2. Pwen k ap fonn (C): 20003. Solibilite: ensolubl nan dlo, idrosolubl nan asid mineral cho

Aplikasyon:

1. Itilize kòm yon reyaktif espektroskopik pi bon kalite ak materyèl pou eleman elektwonik, elatriye

2. Itilize kòm kouch pwoteksyon pou reflektè metal ak fim semi-conducteurs pou ekspozisyon foto-elektrik, tou itilize pou sèl Endyòm ak vè.

3. Li espesyalman apwopriye pou trete materyèl sib endyòm fèblan oksid (ITO) pou fè elektwòd transparan ak materyèl transparan reflektè tèmik.

Pake ak livrezon:

1. Pake: 100g, 500g, 1kg pou chak sak, oswa jan sa nesesè;

2. Shipping: Fedex, DHL, TNT, EMS