High Puirty 100-200nm WC poud tengstèn Carbide nanopartikul
High Puirty 100-200nm WC poud tengstèn Carbide nanopartikul
Spesifikasyon:
| Kòd | K510 |
| Non | Tengstèn Carbide Nanopartikul |
| Fòmil | WC |
| Nimewo CAS | 12070-12-1 |
| Gwosè patikil | 100-200nm |
| Pite | >99.9% |
| EINECS | 235-124-6 |
| Anbalaj | Double anbalaj antistatik |
| Aparans | Poud nwa |
| MOQ | 100 gram |
| Aplikasyon potansyèl yo | Ewozyon ki reziste penti; Mete-rezistans kouch; Kowozyon ki reziste penti; Pati ki reziste mete. |
Deskripsyon:
Aplikasyon:
1.Tungstène Carbide nano poud aplike nan zouti yo fòme chipless, zouti koupe, peyaj min, Nano-konpoze (pou dite amelyore, fòs, ak rezistans mete).
2.Producing gwo kapasite nano-cristalline oswa super amann horniness alyaj, difisil-fas fwotman rezistan flite ak petwochimik krak katalis.
3.WC poud se ki estab nan lè a, bon inoxidizability ak aktif Sinter kapasite.High pèfòmans nano kristalin, superfine grenn horniness alyaj, difisil-fè fas a abrasion rezistans flite.Petrochemical krak katalis.
4.Erosion ki reziste penti; Mete-rezistans kouch; Kowozyon ki reziste penti; Pati ki reziste mete.
Kondisyon Depo:
Reunion mouye pral afekte pèfòmans dispèsyon li yo ak efè lè l sèvi avèk, Se poutèt sa, pwodwi sa a ta dwe sele nan vakyòm ak estoke nan chanm fre ak sèk epi li pa ta dwe ekspoze a lè.
Anplis de sa, pwodwi a ta dwe evite anba estrès.
SEM & XRD:
