מדוע ניתן להשתמש באבקת ננו של סיליקון דו-חמצני ל-CMP?

לננו-סיליקה יש עלות נמוכה יחסית, ופיזור טוב, שחיקה מכנית, חוזק והידבקות גבוהים, היווצרות סרט טוב, חדירות גבוהה, עמידות גבוהה למזג אוויר ובלאי, גודל חלקיקים קטן, קשיות.יש לו גם את היתרונות של צמיגות מתונה, נמוכה, הידבקות נמוכה וניקוי קל לאחר ליטוש.לפיכך זהו חומר ליטוש לטכנולוגיית CMP עם ביצועים מצוינים.

חלקיקי ננו SiO2 משמשים לעתים קרובות לליטוש מדויק של מתכת, ספיר, סיליקון חד-גבישי, זכוכית-קרמיקה, צינור מנחה אור ומשטחים אחרים.הגודל של תחמוצת סיליקון ננו הוא מתחת ל-100 ננומטר, בעל שטח פנים ספציפי גדול, פיזור וחדירות גבוהים, כך ששכבת הנזק על פני השטח של חומר העבודה המלוטש קטנה ביותר;בנוסף, הקשיות של ננו-חלקיקי סיליקה דומה לזו של פרוסות סיליקון.לכן, הוא משמש לעתים קרובות גם לליטוש פרוסות סיליקון מוליכים למחצה.

היתרונות של אבקת ננו SiO2 ביישום CMP:

1. ליטוש הוא שימוש בננו-חלקיקים אחידים של SiO2 וחומרים אחרים, שלא יגרמו נזק פיזי לחלקים המעובדים, והמהירות מהירה.השימוש בחלקיקים כגון סיליקה קולואידית בעלי גודל חלקיקים אחיד וגדול יכול להשיג את המטרה של ליטוש במהירות גבוהה.

2. זה לא משחית ציוד ובעל ביצועי בטיחות גבוהים.

3. השג עיבוד טחינה בשטיחות גבוהה.

4. להפחית ביעילות את שריטות המשטח לאחר הליטוש ולהפחית את חספוס פני השטח לאחר הליטוש.