Wêdakakêna tembaga logam nano digunakake kanthi wiyar ing katalis efisiensi dhuwur, plasma konduktif, bahan keramik, konduktivitas dhuwur, paduan kekuatan spesifik sing dhuwur lan pelumas padat amarga sifat optik, listrik, magnetik, termal lan kimia sing unik.

Nano-aluminium, tembaga lan wêdakakêna nikel duwe lumahing Highly aktif lan bisa dilapisi ing suhu ngisor titik leleh bubuk ing kahanan oksigen-free. Teknologi iki bisa ditrapake kanggo produksi piranti mikroelektronik, minangka lapisan konduktif ing permukaan logam lan non-logam.

Nggunakake wêdakakêna nano-tembaga tinimbang wêdakakêna logam mulia kanggo nyiyapake tempel elektronik kanthi kinerja sing unggul bisa nyuda biaya. Teknologi iki bisa ningkatake optimalisasi pangolahan mikroelektronik.