რატომ შეიძლება გამოყენებულ იქნას სილიციუმის დიოქსიდის ნანო ფხვნილი CMP-სთვის?

ნანო-სილიკას აქვს შედარებით დაბალი ღირებულება და კარგი დისპერსიულობა, მექანიკური აბრაზია, მაღალი სიმტკიცე და წებოვნება, კარგი ფირის ფორმირება, მაღალი გამტარიანობა, მაღალი ამინდისა და აცვიათ წინააღმდეგობა, მცირე ნაწილაკების ზომა, სიმტკიცე.მას ასევე აქვს ზომიერი, დაბალი სიბლანტის, დაბალი წებოვნების და გაპრიალების შემდეგ მარტივი გაწმენდის უპირატესობები.ამრიგად, ეს არის გასაპრიალებელი მასალა CMP ტექნოლოგიისთვის, შესანიშნავი შესრულებით.

SiO2 ნანო ნაწილაკი ხშირად გამოიყენება ლითონის, საფირონის, მონოკრისტალური სილიციუმის, მინა-კერამიკის, მსუბუქი სახელმძღვანელო მილის და სხვა ზედაპირების ზუსტი გასაპრიალებლად.ნანო სილიციუმის ოქსიდის ზომა 100 ნმ-ზე ნაკლებია, რომელსაც აქვს დიდი სპეციფიური ზედაპირი, მაღალი დისპერსიულობა და გამტარიანობა, ამიტომ გაპრიალებული სამუშაო ნაწილის ზედაპირზე დაზიანების ფენა უკიდურესად მცირეა;გარდა ამისა, სილიციუმის ნანონაწილაკების სიმტკიცე მსგავსია სილიციუმის ვაფლის სიხისტისა.ამიტომ, მას ასევე ხშირად იყენებენ ნახევარგამტარული სილიკონის ვაფლის გასაპრიალებლად.

ნანო SiO2 ფხვნილის უპირატესობები CMP აპლიკაციაში:

1. გაპრიალება არის SiO2-ისა და სხვა მასალების ერთიანი ნანონაწილაკების გამოყენება, რომელიც არ გამოიწვევს დამუშავებულ ნაწილებს ფიზიკურ დაზიანებას და სიჩქარეც არის სწრაფი.ისეთი ნაწილაკების გამოყენება, როგორიცაა კოლოიდური სილიციუმი, ერთიანი და დიდი ნაწილაკების ზომით, შეუძლია მიაღწიოს მაღალსიჩქარიანი გაპრიალების მიზანს.

2. არ ახშობს აღჭურვილობას და აქვს უსაფრთხოების მაღალი ხარისხი.

3. მიაღწიეთ მაღალი სიბრტყის სახეხი დამუშავებას.

4. ეფექტურად შეამცირეთ ზედაპირის ნაკაწრები გაპრიალების შემდეგ და შეამცირეთ ზედაპირის უხეშობა გაპრიალების შემდეგ.