თუ თმის ცვენა მოზრდილთათვის პრობლემაა, მაშინ კბილების გაფუჭება (სამეცნიერო სახელი კარიესი) არის საერთო თავის ტკივილის პრობლემა ყველა ასაკის ადამიანისთვის.

სტატისტიკის თანახმად, ჩემს ქვეყანაში მოზარდებში სტომატოლოგიური კარიესის შემთხვევა 50%-ზე მეტია, საშუალო ასაკის ადამიანებში სტომატოლოგიური კარიესის შემთხვევა 80%-ზე მეტია, ხოლო ხანდაზმულთა შორის, პროპორცია 95%-ზე მეტია. თუ დროულად არ არის მკურნალობა, ეს საერთო სტომატოლოგიური მყარი ქსოვილის ბაქტერიული დაავადება გამოიწვევს პულპიტს და აპიკალურ პერიოდონტიტს, და კიდევ გამოიწვევს ალვეოლარული ძვლისა და ყბის ძვლის ანთებას, რაც სერიოზულად იმოქმედებს პაციენტის ჯანმრთელობაზე და ცხოვრებაზე. ახლა, ამ დაავადებამ შეიძლება შეექმნა "ნემისი".

2020 წლის შემოდგომაზე ამერიკის ქიმიური საზოგადოების (ACS) ვირტუალურ კონფერენციაზე და გამოფენაზე, ჩიკაგოში ილინოისის უნივერსიტეტის მკვლევარებმა განაცხადეს, რომ ცერიუმის ნანონაწილაკების ახალი ტიპის ფორმულირებაა, რამაც შეიძლება ხელი შეუშალოს სტომატოლოგიური დაფის და კბილების გაფუჭების ფორმირებას ერთ დღეში. დღეისათვის, მკვლევარებმა განაცხადეს პატენტისთვის, ხოლო მომავალში მომზადება შეიძლება ფართოდ იქნას გამოყენებული სტომატოლოგიურ კლინიკებში.

ადამიანის პირში 700 -ზე მეტი სახის ბაქტერიებია. მათ შორის, არსებობს არა მხოლოდ სასარგებლო ბაქტერიები, რომლებიც ხელს უწყობენ საკვების მონელებას ან სხვა მიკროორგანიზმების კონტროლს, არამედ მავნე ბაქტერიებს, მათ შორის Streptococcus mutans. ასეთმა მავნე ბაქტერიებმა შეიძლება დაიცვან კბილები და შეიკრიბონ "ბიოფილმის" შესაქმნელად, მოიხმარენ შაქარს და წარმოქმნიან მჟავე პროდუქტებს, რომლებიც კბილის მინანქარს ასწორებენ, რითაც გზას უქმნის "კბილების გაფუჭებას".

კლინიკურად, Stannous Fluoride, ვერცხლის ნიტრატი ან ვერცხლის დიამინის ფტორიდი ხშირად გამოიყენება სტომატოლოგიური დაფის შესამცირებლად და კბილის შემდგომი გაფუჭების თავიდან ასაცილებლად. ასევე არსებობს კვლევები, რომლებიც ცდილობენ გამოიყენონ თუთიის ოქსიდისგან დამზადებული ნანონაწილაკები, სპილენძის ოქსიდი და ა.შ., კბილის დაშლის სამკურნალოდ. მაგრამ პრობლემა ის არის, რომ ადამიანის პირის ღრუსში 20 -ზე მეტი კბილი არსებობს და ყველა მათგანს ბაქტერიების განადგურების რისკი აქვს. ამ მედიკამენტების განმეორებით გამოყენებამ შეიძლება გამოიწვიოს სასარგებლო უჯრედები და კიდევ გამოიწვიოს მავნე ბაქტერიების წამლის წინააღმდეგობის პრობლემა.

ამრიგად, მკვლევარები იმედოვნებენ, რომ იპოვონ გზა, რომ დაიცვან სასარგებლო ბაქტერიები პირის ღრუს ღრუში და თავიდან აიცილონ კბილის გაფუჭება. მათ ყურადღება მიაქციეს ცერიუმის ოქსიდის ნანონაწილაკებს (მოლეკულური ფორმულა: CEO2). ნაწილაკი ერთ - ერთი მნიშვნელოვანი ანტიბაქტერიული მასალაა და აქვს ნორმალური უჯრედების დაბალი ტოქსიკურობის უპირატესობა და ანტიბაქტერიული მექანიზმი, რომელიც დაფუძნებულია შექცევადი ვალენტურობის კონვერტაციაზე. 2019 წელს, ნანკას უნივერსიტეტის მკვლევარებმა სისტემატურად შეისწავლეს შესაძლო ანტიბაქტერიული მექანიზმიცერიუმის ოქსიდის ნანონაწილაკებიმეცნიერებაში ჩინეთის მასალები.

კონფერენციაზე მკვლევარების მოხსენების თანახმად, მათ წარმოქმნეს ცერიუმის ოქსიდის ნანონაწილაკები წყალში ცერიუმის ნიტრატის ან ამონიუმის სულფატის დაშლით და შეისწავლეს ნაწილაკების მოქმედება სტრეპტოკოკის მუტანების მიერ შექმნილ "ბიოფილმზე". შედეგებმა აჩვენა, რომ მიუხედავად იმისა, რომ ცერიუმის ოქსიდის ნანონაწილაკებმა ვერ ამოიღეს არსებული "ბიოფილმი", მათ მისი ზრდა 40%-ით შეამცირეს. ანალოგიურ პირობებში, კლინიკურად ცნობილი ანტი-სიფრთხილის აგენტის ვერცხლის ნიტრატი ვერ შეაჩერებს "ბიოფილმს". "მემბრანის" განვითარება.

პროექტის მთავარმა მკვლევარმა, ჩიკაგოში ილინოისის უნივერსიტეტის რასელ პესავენტომ თქვა: ”ამ მკურნალობის მეთოდის უპირატესობა ის არის, რომ ის, როგორც ჩანს, ნაკლებად მავნეა პირის ღრუს ბაქტერიებისთვის. ნანონაწილაკები ხელს შეუშლის მხოლოდ მიკროორგანიზმებს ნივთიერების დაცვასა და ბიოფილმის ფორმირებას. და ნაწილაკების ტოქსიკურობა და მეტაბოლური მოქმედებები ადამიანის პირის ღრუს უჯრედებზე პეტრის კერძში ნაკლებია, ვიდრე ვერცხლის ნიტრატი სტანდარტულ მკურნალობაში. ” 

ამჟამად, გუნდი ცდილობს გამოიყენოს საიზოლაციო მასალები ნანონაწილაკების სტაბილიზაციისთვის ნეიტრალური ან სუსტი ტუტე pH- სთან ახლოს ნერწყვის მახლობლად. სამომავლოდ, მკვლევარებმა შეამოწმონ ამ თერაპიის გავლენა ადამიანის უჯრედებზე ქვედა საჭმლის მომნელებელ ტრაქტში უფრო სრულ ზეპირი მიკრობული ფლორის დროს, რათა პაციენტებს უსაფრთხოების უკეთესად განცდა ჰქონდეთ.