Неліктен кремний диоксиді нано ұнтағын CMP үшін пайдалануға болады?

Нано кремний диоксиді салыстырмалы түрде төмен құны, жақсы дисперстілігі, механикалық тозуы, жоғары беріктігі мен адгезиясы, жақсы пленка түзілуі, жоғары өткізгіштігі, жоғары ауа-райы мен тозуға төзімділігі, ұсақ бөлшектердің өлшемі, қаттылығы бар.Ол сондай-ақ қалыпты, төмен тұтқырлық, төмен адгезия және жылтыратудан кейін оңай тазалаудың артықшылықтарына ие.Осылайша, бұл тамаша өнімділігі бар CMP технологиясы үшін жылтырататын материал.

SiO2 нанобөлшегі көбінесе металды, сапфирді, монокристалды кремнийді, шыны керамиканы, жарық бағыттаушы түтіктерді және басқа беттерді дәл жылтырату үшін қолданылады.Нано кремний оксидінің мөлшері 100 нм-ден төмен, оның үлкен меншікті бетінің ауданы, жоғары дисперстілігі және өткізгіштігі бар, сондықтан жылтыратылған дайындаманың бетіндегі зақымдану қабаты өте аз;сонымен қатар кремний нанобөлшектерінің қаттылығы кремний пластинкаларына ұқсас.Сондықтан ол жартылай өткізгіш кремний пластинкаларын жылтырату үшін де жиі қолданылады.

CMP қолдануындағы нано SiO2 ұнтағының артықшылықтары:

1. Жылтырату – өңделетін бөлшектерге физикалық зақым келтірмейтін және жылдамдығы жоғары болатын SiO2 және басқа материалдардың біркелкі нанобөлшектерін пайдалану.Біркелкі және үлкен бөлшектердің өлшемі бар коллоидты кремнезем сияқты бөлшектерді пайдалану жоғары жылдамдықты жылтырату мақсатына жетуге болады.

2. Ол жабдықты коррозияға ұшыратпайды және жоғары қауіпсіздік көрсеткіштеріне ие.

3. Ұнтақтауды өңдеудің жоғары тегістігіне қол жеткізу.

4. Жылтыратудан кейін беткі сызаттарды тиімді түрде азайтыңыз және жылтыратудан кейін беттің кедір-бұдырын азайтыңыз.