1. ತನ್ನದೇ ಆದ ಸಣ್ಣ ಗಾತ್ರಕ್ಕಾಗಿ, SiO2 ನ್ಯಾನೊಪೌಡರ್ ಎಪಾಕ್ಸಿ ರಾಳದ ಕ್ಯೂರಿಂಗ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಸ್ಥಳೀಯ ಕುಗ್ಗುವಿಕೆಯಿಂದ ರೂಪುಗೊಂಡ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಬಿರುಕುಗಳು ಮತ್ತು ರಂಧ್ರಗಳನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ತುಂಬುತ್ತದೆ, ನಾಶಕಾರಿ ಮಾಧ್ಯಮದ ಪ್ರಸರಣ ಮಾರ್ಗವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಲೇಪನದ ರಕ್ಷಾಕವಚ ಮತ್ತು ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ;

2. ಅದರ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನಕ್ಕಾಗಿ, ಸಿಲಿಕಾ ನ್ಯಾನೊಪರ್ಟಿಕಲ್ ಎಪಾಕ್ಸಿ ರಾಳದ ಗಡಸುತನವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ.
ಜೊತೆಗೆ, ಸೂಕ್ತ ಪ್ರಮಾಣದ ನ್ಯಾನೊ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಕಣಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದರಿಂದ ಎಪಾಕ್ಸಿ ಲೇಪನದ ಇಂಟರ್ಫೇಸ್ ಬಂಧದ ಬಲವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಲೇಪನದ ಸೇವಾ ಜೀವನವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸಬಹುದು.

ನ್ಯಾನೊ ಸಿಲಿಕಾ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಶಾಖ ಮತ್ತು ಉತ್ಕರ್ಷಣ ನಿರೋಧಕತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಅಜೈವಿಕ ಲೋಹವಲ್ಲದ ವಸ್ತುವಾಗಿದೆ.ಇದರ ಆಣ್ವಿಕ ಸ್ಥಿತಿಯು [SiO4] ಟೆಟ್ರಾಹೆಡ್ರಾನ್ ಮೂಲ ರಚನಾತ್ಮಕ ಘಟಕವಾಗಿ ಮೂರು ಆಯಾಮದ ಜಾಲಬಂಧ ರಚನೆಯಾಗಿದೆ.ಅವುಗಳಲ್ಲಿ, ಆಮ್ಲಜನಕ ಮತ್ತು ಸಿಲಿಕಾನ್ ಪರಮಾಣುಗಳು ಕೋವೆಲನ್ಸಿಯ ಬಂಧಗಳಿಂದ ನೇರವಾಗಿ ಸಂಪರ್ಕ ಹೊಂದಿವೆ, ಮತ್ತು ರಚನೆಯು ಪ್ರಬಲವಾಗಿದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಇದು ಸ್ಥಿರವಾದ ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಶಾಖ ಮತ್ತು ಹವಾಮಾನ ಪ್ರತಿರೋಧ, ಇತ್ಯಾದಿ.

ನ್ಯಾನೊ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಡೈಆಕ್ಸೈಡ್ ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಎಪಾಕ್ಸಿ ಲೇಪನದಲ್ಲಿ ವಿರೋಧಿ ತುಕ್ಕು ಫಿಲ್ಲರ್ ಪಾತ್ರವನ್ನು ವಹಿಸುತ್ತದೆ.ಒಂದೆಡೆ, ನ್ಯಾನೊ SiO2 ಎಪಾಕ್ಸಿ ರಾಳದ ಕ್ಯೂರಿಂಗ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಬಿರುಕುಗಳು ಮತ್ತು ರಂಧ್ರಗಳನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ತುಂಬುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನುಗ್ಗುವ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ;ಮತ್ತೊಂದೆಡೆ, ನ್ಯಾನೊ ಸಿಲಿಕಾ ಮತ್ತು ಎಪಾಕ್ಸಿ ರಾಳದ ಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಗುಂಪುಗಳು ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಅಥವಾ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ಭೌತಿಕ/ರಾಸಾಯನಿಕ ಅಡ್ಡ-ಸಂಪರ್ಕ ಬಿಂದುಗಳನ್ನು ರಚಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು Si-O—Si ಮತ್ತು Si—O—C ಬಂಧಗಳನ್ನು ಆಣ್ವಿಕ ಸರಪಳಿಯಲ್ಲಿ ಪರಿಚಯಿಸಿ ಮೂರು ಲೇಪನ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಆಯಾಮದ ನೆಟ್ವರ್ಕ್ ರಚನೆ.ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ನ್ಯಾನೋ SiO2 ನ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಡಸುತನವು ಲೇಪನದ ಉಡುಗೆ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಲೇಪನದ ಸೇವಾ ಜೀವನವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ.