0.3-0.5um 99.9% Silicon Nitride Pulvis Micro 300nm-500nm
0.3-0.5um Pii Nitride Powder
Specificatio:
| Code | L560 |
| Nomen | Pii Nitride Pulvis |
| Formulae | Si3N4 |
| CAS Non. | 12033-89-5 |
| Magnitudo particula | 0.3-0.5um |
| Puritas | 99,9% vel 99,99% |
| Crystal Type | Alpha |
| Aspectus | Off album pulveris |
| sarcina | 1kg aut ut requiratur |
| Applicationes potentiale | Usus in forma emissio agentis pii polycrystallini et una vicus cristallina pii fusilis;usus est in materia refracta provectus;usus in tenuibus cellulis cinematographicis solis;etc. |
Descriptio:
Si3N4 novum genus est structurae ceramicae caliditatis caliditatis cum excellentibus proprietatibus chemicis, bono thermae resistentiae, temperaturae humilis subrepens, non udus ad varias liquefactionis metalli non-ferrosae, altae duritiae, auto-lubricationis, late in usu est. instrumenta secanda, metallurgia, aviationes, chemica et aliae industriae.
Silicon nitridum etiam ad cellulas solares tenues applicari potest.Post cinematographica siliconis cinematographica per methodum PECVD patella, non solum reflexio lucis incidentis minui potest, sed etiam, in depositione cinematographici siliconis, hydrogenii atomi reactionis productum in cinematographico et nitride silicon pii laganum ad passivate Munus vitiorum.
Repono Condition:
Pulvis Pii Nitride in obsignando reponendus est, ne lucem, locum siccum devita.Locus temperatus repono est ok.
SEM :
