Industriell Grad utralfine Siliziumdioxid Nanopartikelen Nano Silikapulver

Spezifizéierung vu SiO2 Nanopartikel

Partikelgréisst: 20-30nm

Rengheet: 99,8%

Uwendung vu SiO2 Nanopartikel

Dobäi SiO2 Nanopartikelto Beschichtung, et kann d'Scrub-Resistenz verbesseren, d'Kraaft an d'Härheet vun der Beschichtung.Cans Effekt gëtt wesentlech verbessert.D'Eegeschafte vun der Beschichtung net-hierarchesch, anti-sagging, gutt Aarbechtbarkeet a Fleckresistenz ass staark verbessert, a mat exzellente Selbstreinigungs- an Adhäsiounseigenschaften.Et weist och bedeitend antibakteriell Effekt.

(1) Abrasioun: Abrasiounsresistenz erhéicht ëm e puer dausend bis zu zéngdausend Mol.

(2) Weatherability: Weatherability kann ongeféier dräimol verbessert ginn.

(3) Fleckbeständeg a selbstreinigend: d'Benotzung vun der nano-poröser Struktur vu Siliziumdioxid, an der Nanometer Skala Geometrie komplementär (wéi konkav a konvex wäiss) Interface Struktur gëtt duerch e bestëmmte Prozess an der Beschichtungsfläch geformt , sou datt d'Adsorptiounsluft eng stabile Gasbarriärschicht vu Film op der Uewerfläch bilden;déi zweet ass Uewerfläch-behandelt Nano-Silica Partikel op d'Uewerfläch weist den Elterendeel oder duebel-dunnen, also effektiv Reewaasser Laf op der Uewerfläch vun der kann een verbesseren architektonescht coatings Stëbs a naass Haftung, verbessert Film stain Resistenz an Self-Botzen Fähegkeet.

(4) Antimikrobial Resistenz: a Beschichtungen huet bedeitend antimikrobiellen Effekt gewisen.

(5) Hydrophobe Korrosiounsbeständegkeet: huet net nëmmen exzellent Adhäsioun, Korrosiounsbeständegkeet, an huet héich Dicht an Anti-Sub-Permeabilitéit.

(6) Transparenz: Nano-geännert Beschichtungen garantéieren Transparenz, d'Verschleißbeständegkeet wéi d'Original 10 Mol.

(7) Hardness: UV-curable Beschichtungen fir Filmhärkeet ze verbesseren, méi wéi 2,5 Mol.

(8) Thermesch Stabilitéit: an UV-curable Beschichtungen kann d'Beschichtung d'Glas Iwwergangstemperatur verbesseren.(9) Viskositéit: kann d'Viskositéit vun der Beschichtung wesentlech erhéijen.