Uwendung vu Ceriumdioxid / CeO2 Nanopartikel:

(1) Ceric Dioxid Nanopowder fir Polieren: Nano Ceriumoxid ass de Moment am meeschte benotzt Schleifmëttel fir Glaspoléieren.Et gëtt wäit an der Präzisiounsveraarbechtung vu Glas an opteschen Komponenten benotzt a gouf extensiv studéiert.Wat de Poliereffekt am Polierpulver beaflosst, ass d'Partikelgréisst, d'Rengheet an d'Härheet vum CeO2.D'Partikelgréisst ass den Haaptfaktor.Déi grouss Partikelgréisst ass gëeegent fir d'Poléieren vun gewéinleche opteschen Komponenten a Spektakellënsen, während déi kleng Partikelgréisst gëeegent ass fir d'High-Speed-Poléieren vu feine opteschen Lënsen.

Zum Beispill: Als dat heefegst a Basis anorganescht Material gëtt Glas wäit benotzt a Pen-Notizbuch Computer Festplack Glas Substrate, Digital Kamera Chips, Ultra-Präzisioun optesch Lënsen, optesch Fënsteren an aner optesch Komponenten, souwéi optesch Kommunikatiounskomponenten, flaach-Panel Affichage an aner fortgeschratt Elektronik.Ultra-glat, sub-nanometer Rauhheet, flaach Glas Uewerfläch ouni Mikro-Defekte ass e wichtege Faktor am Zesummenhang mat der Leeschtung vun dësen High-Tech Produkter ginn.Chemesch mechanesch Polieren (CMP) ass e wichtege Bestanddeel vun der Siliziumwaferveraarbechtung an dem ganzen Oflagerungs- an Ätsprozess bei der Produktioun vun integréierte Circuiten.Et benotzt de mechanesche poléierend Effekt vun den ultrafeinen abrasive Partikelen an der CMP-Schlämmung an de chemesche Korrosiounseffekt vun der Schlamm.Déi optesch Scheif bildt eng héich flaach Uewerfläch op der Siliziumwafer, op där de Circuitmuster gemaach gouf.Et ass de Moment eng nei Technologie déi global Oflaachung am Fabrikatiounsprozess vu VLSI Circuits ubidden kann.

(2) Nano-Cerium Dioxid fir Katalysator benotzt huet gutt Redox Leeschtung.Ceriumoxid Nanopowder huet net nëmmen eenzegaarteg Sauerstofflagerung a Sauerstoffverëffentlechungsfunktiounen, awer ass och den aktivsten Oxidkatalysator an der seltener Äerdoxidserie.Dofir kann Nano Ceria als Hëllefsmëttel benotzt ginn fir d'katalytesch Leeschtung vum Katalysator a ville Geleeënheeten ze verbesseren.

(3) Ceric Oxid Nano Partikel an der Stolindustrie benotzt: Nano-Ceriumoxid als Beschichtung an Zousatz kann d'Oxidatiounsresistenz, d'waarm Korrosioun, d'Waasserkorrosioun an d'Vulkaniséierungseigenschaften vun héichtemperaturen Legierungen a Edelstol verbesseren, a kënnen och sinn als Inokulant fir duktil Eisen benotzt.

(4) Ceriumoxid Nano-Pulver kann an ultraviolet absorbéierende Produkter benotzt ginn, well Nano CeO2 reichend elektronesch Iwwergangsenergieniveauen huet, exzellent optesch Sensibilitéit fir d'Ultraviolet Liichtabsorption.Gekoppelt mat der klenger Gréisst Effekt, héich spezifesch Uewerfläch Effekt, a macroscopic quantum Effekt vun Nanopartikel, CeO2 Nano huet staark Streuung a Reflexioun Effekter op ultraviolet Liicht.Ausserdeem huet CeO2 gutt thermesch Stabilitéit, Sécherheet an Net-Toxizitéit, vill Ressourcen, a niddereg Virbereedungskäschte, sou datt et erwaart gëtt eng nei Aart vun Ultraviolet Absorber ze ginn, déi a verschiddene Beräicher applizéiert gëtt.