Mat der Entwécklung vu modernen High-Tech ginn elektromagnetesch Interferenz (EMI) an elektromagnetesch Kompatibilitéit (EMC) Problemer, déi duerch elektromagnetesch Wellen verursaacht ginn, ëmmer méi eescht.Si verursaachen net nëmmen Stéierungen a Schued un elektronesch Instrumenter an Ausrüstung, beaflossen hiren normale Fonctionnement, a beschränken d'international Kompetitivitéit vun eisem Land an elektronesche Produkter an Ausrüstung eescht, a verschmotzen och d'Ëmwelt an d'mënschlech Gesondheet a Gefor;Zousätzlech wäert d'Auslafe vun elektromagnetesche Wellen och d'national Informatiounssécherheet an d'Sécherheet vu militäresche Kärgeheimnisser a Gefor bréngen.Besonnesch elektromagnetesch Pulswaffen, déi nei Konzeptwaffen sinn, hu wesentlech Duerchbréch gemaach, déi direkt elektronesch Ausrüstung, Stroumsystemer, etc.

Dofir wäert d'Erfuerschung vun effizienten elektromagnetesche Schirmmaterialien fir elektromagnéitesch Stéierungen an elektromagnetesch Kompatibilitéitsproblemer, déi duerch elektromagnéitesch Wellen verursaacht ginn, d'Sécherheet an d'Zouverlässegkeet vun elektronesche Produkter an Ausrüstung verbesseren, d'international Kompetitivitéit verbesseren, elektromagnetesch Pulswaffen verhënneren, a Sécherheet vun Informatiounskommunikatiounssystemer an Netzwierksystem garantéieren. , Transmissioun Systemer, Waffen Plattformen, etc.. si vu grousser Bedeitung.

1. Prinzip vun der elektromagnetescher Schirmung (EMI)

Elektromagnetesch Schirmung ass d'Benotzung vu Schirmmaterialien fir d'Verbreedung vun der elektromagnetescher Energie tëscht dem geschützte Gebitt an der Äussewelt ze blockéieren oder ze attenuéieren.De Prinzip vun der elektromagnetescher Schirmung ass de Schirmkierper ze benotzen fir den elektromagnéiteschen Energiefloss ze reflektéieren, absorbéieren an ze guidéieren, deen enk mat de Ladungen, Stréim a Polariséierung induzéiert ass op der Uewerfläch vun der Schirmstruktur a bannent dem Schirmkierper.Shielding ass ënnerdeelt an elektresch Feld shielding (elektrostatic shielding an alternéierend elektresch Feld shielding), Magnéitfeld shielding (niddereg-Frequenz Magnéitfeld an héich-Frequenz Magnéitfeld shielding) an elektromagnéitesch Feld shielding (elektromagnetic Wellen shielding) no sengem Prinzip.Allgemeng bezeechent elektromagnetesch Schirmung op déi lescht, dat heescht, d'elektresch a magnetesch Felder zur selwechter Zäit ze schützen.

2. Elektromagnetesch Schirmmaterial

Am Moment gi Komposit elektromagnetesch Schirmbeschichtungen vill benotzt.Hir Haaptkompositioune sinn filmbildend Harz, konduktiv Filler, Verdünnungsmëttel, Kupplungsmëttel an aner Zousatzstoffer.Conductive Filler ass e wichtege Bestanddeel dovun.Déi allgemeng sinn Sëlwer (Ag) Pudder a Kupfer (Cu) Puder., Néckel (Ni) Pudder, Sëlwer-beschichtete Kupferpulver, Kuelestoff Nanotubes, Graphen, Nano ATO, etc.

2.1Kuelestoff Nanotubes(CNT)

Carbon Nanotubes hunn e super Aspekt Verhältnis, exzellent elektresch, magnetesch Eegeschaften, an hunn exzellent Leeschtung an der Konduktivitéit, der Absorptioun an der Schirmung gewisen.Dofir ass d'Fuerschung an d'Entwécklung vu Kuelestoff Nanotubes als konduktiv Filler fir elektromagnetesch Schirmbeschichtungen ëmmer méi populär ginn.Dëst stellt héich Ufuerderungen un d'Rengheet, d'Produktivitéit an d'Käschte vu Kuelestoff Nanotubes.D'Kuelestoff Nanotubes, déi vum Hongwu Nano produzéiert ginn, dorënner Single-walled a Multi-walled, hunn eng Rengheet vu bis zu 99%.Ob d'Kuelestoff Nanotubes am Matrixharz verspreet sinn an ob se gutt Affinitéit mam Matrixharz hunn, gëtt en direkten Faktor deen d'Schirmleistung beaflosst.Hongwu Nano liwwert och dispergéiert Kuelestoff Nanotube Dispersiounsléisung.

2.2 Flake Sëlwerpulver mat gerénger scheinbarer Dicht

Déi fréierst publizéiert konduktiv Beschichtung war e Patent, deen 1948 vun den USA ausgestallt gouf, deen Sëlwer an Epoxyharz zu konduktiv Klebstoff gemaach huet.D'elektromagnetesch Schirmfaarf virbereet mat de Kugelfälschte Flake Sëlwerpulver produzéiert vum Hongwu Nano huet d'Charakteristike vu gerénger Resistenz, gudder Konduktivitéit, héich Schirmungseffizienz, staarker Ëmwelttoleranz a praktescher Konstruktioun.Si gi wäit an der Kommunikatioun, Elektronik, Medizin, Raumfaart, Nuklearanlagen an aner Felder benotzt.Schirmlack ass och gëeegent fir Uewerflächebeschichtung vun ABS, PC, ABS-PCPS an aner Ingenieursplastik.D'Performance Indikatoren abegraff Verschleißbeständegkeet, Héich- an Tieftemperaturresistenz, Fiichtegkeet an Hëtztbeständegkeet, Adhäsioun, elektresch Resistivitéit, elektromagnetesch Kompatibilitéit, etc.

2.3 Kupferpulver a Néckelpulver

Kupferpulverleitende Lack huet niddereg Käschten an et ass einfach ze molen, huet och e gudden elektromagnetesche Schirmeffekt, an dofir ass et vill benotzt.Et ass besonnesch gëeegent fir d'anti-elektromagnetesch Welleninterferenz vun elektronesche Produkter mat Ingenieursplastik wéi d'Schuel, well de Kupferpulverleitende Lack kann liicht gesprëtzt oder gebastelt ginn.Plastiksflächen vu verschiddene Formen ginn metalliséiert fir eng elektromagnetesch Schirmleitend Schicht ze bilden, sou datt de Plastik den Zweck erreechen kann fir elektromagnetesch Wellen ze schützen.D'Morphologie an d'Quantitéit vum Kupferpulver hunn e groussen Afloss op d'Konduktivitéit vun der Beschichtung.Kupferpulver huet kugelfërmeg, dendritesch a flake-ähnlech Formen.D'Flackform huet e vill méi grousst Kontaktfläch wéi d'kugelgestalt a weist eng besser Konduktivitéit.Zousätzlech ass de Kupferpulver (sëlwerbeschichtete Kupferpulver) mat inaktiven metallesche Sëlwerpulver beschichtet, wat net einfach ze oxidéieren ass, an den Inhalt vu Sëlwer ass allgemeng 5-30%.Kupferpulverleitend Beschichtung gëtt benotzt fir d'elektromagnetesch Schirmung vun ABS, PPO, PS an aner Ingenieursplastik an Holz ze léisen An elektresch Konduktivitéit, huet eng breet Palette vun Applikatioun a Promotiounswäert.

Zousätzlech weisen d'elektromagnetesch Schirmeffektmiessungsresultater vun Nano-Nickelpulver an elektromagnetesche Schirmbeschichtungen gemëscht mat Nano- a Mikron-Nickelpulver, datt d'Zousatz vun Nano Ni-Partikel d'elektromagnetesch Schirmungseffizienz reduzéiere kann, awer d'Absorptiounsverloscht erhéijen.De magnetesche Verloscht Tangent gëtt reduzéiert, souwéi de Schued un der Ëmwelt, Ausrüstung a mënschlech Gesondheet verursaacht duerch elektromagnetesch Wellen.

2.4 Nano Tin Antimonoxid (ATO)

Nano ATO Pulver, als eenzegaarteg Filler, huet souwuel héich Transparenz a Konduktivitéit, an eng breet Palette vun Uwendungen an de Beräicher vun Displaybeschichtungsmaterialien, konduktiv antistatesch Beschichtungen, an transparenten thermesch Isolatiounsbeschichtungen.Ënnert den Affichagebeschichtungsmaterialien fir optoelektronesch Geräter hunn Nano ATO Materialien antistatesch, Anti-Glanz an Anti-Stralungsfunktiounen, a goufen als éischt als Display elektromagnetesch Schirmbeschichtungsmaterialien benotzt.ATO Nano Beschichtungsmaterialien hunn gutt Liichtfaarf Transparenz, gutt elektresch Konduktivitéit, mechanesch Kraaft a Stabilitéit, an hir Uwendung fir Apparater ze weisen ass eng vun de wichtegsten industriellen Uwendungen vun ATO Materialien am Moment.Elektrochromesch Geräter (wéi Displays oder Smart Fënsteren) sinn am Moment e wichtegen Aspekt vun Nano-ATO Uwendungen am Displayfeld.

2.5 Grafen

Als nei Aart vu Kuelestoffmaterial ass Graphen méi wahrscheinlech eng nei Aart vun effektiven elektromagnetesche Schirm oder Mikrowell absorbéierend Material ze ginn wéi Kuelestoff Nanotubes.D'Haaptgrënn enthalen déi folgend Aspekter:

①Graphene ass e sechseckegen flaach Film aus Kuelestoffatome besteet, en zweedimensional Material mat der Dicke vun nëmmen engem Kuelestoffatom;

②Graphene ass dat dënnsten an haartsten Nanomaterial op der Welt;

③ D'thermesch Konduktivitéit ass méi héich wéi déi vu Kuelestoff Nanotubes an Diamanten, erreecht ongeféier 5 300W / m•K;

④Graphene ass d'Material mat der klengster Resistivitéit an der Welt, nëmmen 10-6Ω•cm;

⑤D'Elektronmobilitéit vu Graphen bei Raumtemperatur ass méi héich wéi déi vu Kuelestoff Nanotubes oder Siliziumkristalle, iwwer 15.000 cm2/V•s.Am Verglach mat traditionelle Materialien kann Graphen duerch déi ursprénglech Aschränkungen duerchbriechen an en effektiven neie Wellenabsorber ginn fir d'Ufuerderunge vun der Absorptioun z'erreechen.Wellematerialien hunn d'Ufuerderunge vun "dënn, liicht, breet a staark".

D'Verbesserung vun der elektromagnéitescher Schirmung an der Absorptiounsmaterialleistung hänkt vum Inhalt vum Absorptiounsmëttel of, der Leeschtung vum Absorbéiermëttel an der gudder Impedanzmatchung vum absorbéierende Substrat.Graphene huet net nëmmen eng eenzegaarteg kierperlech Struktur an exzellent mechanesch an elektromagnetesch Eegeschaften, awer och gutt Mikrowellenabsorptiounseigenschaften.Nodeems et mat magnetesche Nanopartikelen kombinéiert ass, kann eng nei Zort absorbéierend Material kritt ginn, dat souwuel magnetesch wéi och elektresch Verloschter huet.An et huet gutt Uwendungsperspektiven am Beräich vun der elektromagnetescher Schirmung a Mikrowellenabsorption.

Fir déi uewe gemeinsam elektromagnetesch Schirmmaterial Nano-Pudder, béid sinn all verfügbar vun Hongwu Nano mat stabiler a gudder Qualitéit.