Si3N4 हे नवीन प्रकारचे उच्च तापमान रचनेचे सिरेमिक मटेरियल आहे ज्यामध्ये उत्कृष्ट रासायनिक गुणधर्म, चांगले थर्मल शॉक प्रतिरोध, कमी तापमानात रेंगाळणे, विविध प्रकारचे नॉन-फेरस मेटल वितळणे, उच्च कडकपणा, स्व-स्नेहन, मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाते. कटिंग टूल्स, मेटलर्जी, एव्हिएशन, केमिकल आणि इतर उद्योग.

सिलिकॉन नायट्राइड पातळ-फिल्म सौर पेशींवर देखील लागू केले जाऊ शकते.PECVD पद्धतीने सिलिकॉन नायट्राइड फिल्म लावल्यानंतर, केवळ घटना प्रकाशाचे परावर्तन कमी करता येत नाही, तर सिलिकॉन नायट्राइड फिल्मच्या निक्षेप प्रक्रियेत, प्रतिक्रिया उत्पादनाचे हायड्रोजन अणू सिलिकॉन नायट्राइड फिल्ममध्ये प्रवेश करतात आणि निष्क्रिय करण्यासाठी सिलिकॉन वेफर दोषांची भूमिका.