1. स्वतःच्या लहान आकारासाठी, SiO2 नॅनोपावडर इपॉक्सी रेझिनच्या उपचार प्रक्रियेदरम्यान स्थानिक आकुंचनमुळे तयार होणारे सूक्ष्म क्रॅक आणि छिद्र प्रभावीपणे भरू शकतो, संक्षारक माध्यमांचा प्रसार मार्ग कमी करू शकतो आणि कोटिंगचे संरक्षण आणि संरक्षणात्मक कार्यप्रदर्शन वाढवू शकतो;

2. त्याच्या उच्च कडकपणासाठी, सिलिका नॅनोपार्टिकल इपॉक्सी रेजिनची कडकपणा वाढवते, ज्यामुळे यांत्रिक गुणधर्म वाढतात.
याव्यतिरिक्त, योग्य प्रमाणात नॅनो सिलिकॉन ऑक्साईड कण जोडल्याने इपॉक्सी कोटिंगची इंटरफेस बाँडिंग ताकद वाढू शकते आणि कोटिंगचे सेवा आयुष्य वाढू शकते.

नॅनो सिलिका ही उत्कृष्ट उष्णता आणि ऑक्सिडेशन प्रतिरोधासह एक अजैविक नॉन-मेटलिक सामग्री आहे. त्याची आण्विक अवस्था ही त्रिमितीय नेटवर्क रचना आहे ज्यामध्ये [SiO4] टेट्राहेड्रॉन हे मूलभूत संरचनात्मक एकक आहे. त्यापैकी, ऑक्सिजन आणि सिलिकॉन अणू थेट सहसंयोजक बंधांनी जोडलेले आहेत, आणि रचना मजबूत आहे, म्हणून त्यात स्थिर रासायनिक गुणधर्म, उत्कृष्ट उष्णता आणि हवामान प्रतिरोध इ.

नॅनो सिलिकॉन डायऑक्साइड प्रामुख्याने इपॉक्सी कोटिंगमध्ये गंजरोधक फिलरची भूमिका बजावते. एकीकडे, नॅनो SiO2 इपॉक्सी रेझिनच्या क्यूरिंग प्रक्रियेत निर्माण होणारे सूक्ष्म-क्रॅक आणि छिद्र प्रभावीपणे भरू शकते आणि प्रवेश प्रतिरोध सुधारू शकते; दुसरीकडे, नॅनो सिलिका आणि इपॉक्सी रेजिनचे कार्यात्मक गट शोषण किंवा अभिक्रियाद्वारे भौतिक/रासायनिक क्रॉस-लिंकिंग बिंदू तयार करू शकतात आणि तीन तयार करण्यासाठी आण्विक साखळीमध्ये Si—O—Si आणि Si—O—C बॉण्ड्सचा परिचय करून देतात. - कोटिंग आसंजन सुधारण्यासाठी आयामी नेटवर्क संरचना. याव्यतिरिक्त, नॅनो SiO2 ची उच्च कठोरता कोटिंगच्या पोशाख प्रतिरोधनामध्ये लक्षणीय वाढ करू शकते, ज्यामुळे कोटिंगचे सेवा आयुष्य वाढू शकते.