Si3N4 उत्कृष्ट रासायनिक गुणहरू, राम्रो थर्मल झटका प्रतिरोध, कम तापक्रम क्रीप, विभिन्न गैर-फेरस धातु पग्लने, उच्च कठोरता, सेल्फ-लुब्रिकेशन, उच्च कठोरता, सेल्फ-लुब्रिकेशन सहितको नयाँ प्रकारको उच्च तापक्रम संरचना सिरेमिक सामग्री हो। काट्ने उपकरण, धातु विज्ञान, उड्डयन, रासायनिक र अन्य उद्योगहरू।

सिलिकन नाइट्राइड पातलो-फिल्म सौर कक्षहरूमा पनि लागू गर्न सकिन्छ।सिलिकन नाइट्राइड फिल्मलाई PECVD विधिद्वारा प्लेट गरेपछि, घटना प्रकाशको प्रतिबिम्बलाई मात्र कम गर्न सकिँदैन, तर सिलिकन नाइट्राइड फिल्मको निक्षेप प्रक्रियामा, प्रतिक्रिया उत्पादनको हाइड्रोजन परमाणुहरू सिलिकन नाइट्राइड फिल्ममा प्रवेश गर्छन् र निष्क्रिय गर्न सिलिकन वेफर दोषहरूको भूमिका।