Si3N4 er en ny type høytemperatur struktur keramisk materiale med utmerkede kjemiske egenskaper, god termisk støtmotstand, lav temperatur krypning, ikke fukting til en rekke ikke-jernholdige metallsmelter, høy hardhet, selvsmøring, har vært mye brukt i skjærende verktøy, metallurgi, luftfart, kjemisk og annen industri.

Silisiumnitrid kan også påføres tynnfilmsolceller. Etter at silisiumnitridfilmen er belagt med PECVD-metoden, kan ikke bare refleksjonen av innfallende lys reduseres, men også, i avsetningsprosessen av silisiumnitridfilmen, kommer hydrogenatomene til reaksjonsproduktet inn i silisiumnitridfilmen og silisium wafer å passivere Rollen til defekter.