ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟକରଣ:
ନାମ | ସିରିୟମ୍ (IV) ଅକ୍ସାଇଡ୍, ସେରିକ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍, ସିରିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋ ପାଉଡର୍ | |
ସୂତ୍ର | CeO2 |
CAS ନଂ। | 1306-38-3 |
କଣିକା ଆକାର | | 50nm |
ଶୁଦ୍ଧତା | 99.9% |
ଦୃଶ୍ୟ | ହାଲୁକା ହଳଦିଆ ପାଉଡର | |
ପ୍ୟାକେଜ୍ | ବ୍ୟାଗରେ 1 କିଲୋଗ୍ରାମ, 5 କିଲୋଗ୍ରାମ କିମ୍ବା ଆବଶ୍ୟକ ଅନୁଯାୟୀ | |
ମୁଖ୍ୟ ନିବେଦନ | | କାଟାଲାଇଷ୍ଟ, ପଲିସିଂ, ଯୋଗୀ, ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍ ଅବୋସର୍ବେଣ୍ଟ ଇତ୍ୟାଦି .. |
ବିଚ୍ଛେଦ | | କଷ୍ଟମାଇଜ୍ ହୋଇପାରିବ | |
ବର୍ଣ୍ଣନା:
ସିରିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ / CeO2 ନାନୋପାର୍ଟିକଲ୍ ର ପ୍ରୟୋଗ:
(1) ପଲିସିଂ ପାଇଁ ସେରିକ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋ ପାଉଡର୍: ନାନୋ ସିରିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ଗ୍ଲାସ୍ ପଲିସିଂ ପାଇଁ ସାଧାରଣତ ab ଘୃଣ୍ୟ |ଏହା ଗ୍ଲାସ୍ ଏବଂ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଉପାଦାନଗୁଡିକର ସଠିକ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ ଏବଂ ବ୍ୟାପକ ଭାବରେ ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଛି |ପଲିସିଂ ପାଉଡରରେ ପଲିସିଂ ପ୍ରଭାବକୁ ଯାହା ପ୍ରଭାବିତ କରେ ତାହା ହେଉଛି CeO2 ର କଣିକା ଆକାର, ଶୁଦ୍ଧତା ଏବଂ କଠିନତା |କଣିକାର ଆକାର ହେଉଛି ମୁଖ୍ୟ କାରଣ |ସାଧାରଣ କଣିକା ଆକାର ସାଧାରଣ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଉପାଦାନ ଏବଂ ଦର୍ଶକ ଲେନ୍ସର ପଲିସିଂ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ ହୋଇଥିବାବେଳେ ଛୋଟ କଣିକାର ଆକାର ସୂକ୍ଷ୍ମ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଲେନ୍ସର ହାଇ ସ୍ପିଡ୍ ପଲିସିଂ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ |
ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ: ଅତି ସାଧାରଣ ଏବଂ ମ basic ଳିକ ଅଜ ic ବିକ ପଦାର୍ଥ ଭାବରେ, ଗ୍ଲାସ୍ ପେନ୍-ନୋଟବୁକ୍ କମ୍ପ୍ୟୁଟର ହାର୍ଡ ଡିସ୍କ ଗ୍ଲାସ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍, ଡିଜିଟାଲ୍ କ୍ୟାମେରା ଚିପ୍ସ, ଅଲ୍ଟ୍ରା-ସଠିକ୍ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଲେନ୍ସ, ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ୱିଣ୍ଡୋ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଉପାଦାନ, ଏବଂ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଯୋଗାଯୋଗ ଉପାଦାନଗୁଡ଼ିକରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ଫ୍ଲାଟ-ପ୍ୟାନେଲ୍ ପ୍ରଦର୍ଶନ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଉନ୍ନତ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ |ଅଲ୍ଟ୍ରା-ମସୃଣ, ସବ୍-ନାନୋମିଟର ରୁଗ୍ଣତା, ମାଇକ୍ରୋ-ତ୍ରୁଟି ବିନା ଫ୍ଲାଟ ଗ୍ଲାସ୍ ପୃଷ୍ଠ ଏହି ଉଚ୍ଚ-ବ tech ଷୟିକ ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ସହିତ ଜଡିତ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ କାରଣ ହୋଇପାରିଛି |ରାସାୟନିକ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ପଲିସିଂ (CMP) ହେଉଛି ସିଲିକନ୍ ୱେଫର୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣର ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଅଂଶ ଏବଂ ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନରେ ସମଗ୍ର ଜମା ଏବଂ ଇଚିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା |ଏହା CMP ସ୍ଲୁରିରେ ଅଲ୍ଟ୍ରାଫାଇନ୍ ଆବ୍ରାଶିଭ୍ କଣିକାର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ପଲିସିଂ ପ୍ରଭାବ ଏବଂ ସ୍ଲୁରିର ରାସାୟନିକ କ୍ଷତିକାରକ ପ୍ରଭାବ ବ୍ୟବହାର କରେ |ସିଲିକନ୍ ୱେଫର୍ ଉପରେ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଡିସ୍କ ଏକ ଉଚ୍ଚ ସମତଳ ପୃଷ୍ଠ ସୃଷ୍ଟି କରେ ଯାହା ଉପରେ ସର୍କିଟ୍ ପ୍ୟାଟର୍ ତିଆରି କରାଯାଇଛି |ଏହା ବର୍ତ୍ତମାନ ଏକ ନୂତନ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଯାହା VLSI ସର୍କିଟ୍ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଗ୍ଲୋବାଲ୍ ଫ୍ଲାଟ୍ଟିଙ୍ଗ୍ ପ୍ରଦାନ କରିପାରିବ |
(୨) କାଟାଲାଇଷ୍ଟ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ନାନୋ-ସିରିୟମ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ ଭଲ ରେଡକ୍ସ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଥାଏ |ସିରିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋ ପାଉଡରରେ କେବଳ ଅମ୍ଳଜାନ ସଂରକ୍ଷଣ ଏବଂ ଅମ୍ଳଜାନ ରିଲିଜ୍ କାର୍ଯ୍ୟ ନାହିଁ, ବରଂ ବିରଳ ପୃଥିବୀ ଅକ୍ସାଇଡ୍ କ୍ରମରେ ସବୁଠାରୁ ସକ୍ରିୟ ଅକ୍ସାଇଡ୍ କାଟାଲାଇଷ୍ଟ ଅଟେ |ତେଣୁ, ନାନୋ ସିରିଆକୁ ଅନେକ ସମୟରେ କାଟାଲାଇଷ୍ଟର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ସହାୟକ ଏଜେଣ୍ଟ ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରେ |
()) ଇସ୍ପାତ ଶିଳ୍ପରେ ବ୍ୟବହୃତ ସେରିକ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋ କଣିକା: ନାନୋ-ସିରିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍କୁ ଏକ ଆବରଣ ଏବଂ ଯୋଗୀ ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର କରିବା ଦ୍ୱାରା ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଆଲାଇନ୍ ଏବଂ ଷ୍ଟେନଲେସ୍ ଷ୍ଟିଲର ଅକ୍ସିଡେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ, ଗରମ କ୍ଷୟ, ଜଳ କ୍ଷୟ ଏବଂ ଭଲକାନାଇଜେସନ୍ ଗୁଣ ଉନ୍ନତ ହୋଇପାରେ | ନକଲି ଲୁହା ପାଇଁ ଏକ ଇନୋକୁଲାଣ୍ଟ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |
(4) ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ଅବଶୋଷଣ ଦ୍ରବ୍ୟରେ ସିରିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ନାନୋ ପାଉଡର୍ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରେ କାରଣ ନାନୋ CeO2 ରେ ପ୍ରଚୁର ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍ ଶକ୍ତି ସ୍ତର ଅଛି, ଅଲଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ଆଲୋକ ଅବଶୋଷଣ ପାଇଁ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ସମ୍ବେଦନଶୀଳତା |ଛୋଟ ଆକାରର ପ୍ରଭାବ, ଉଚ୍ଚ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପୃଷ୍ଠଭୂମି ପ୍ରଭାବ ଏବଂ ନାନୋପାର୍ଟିକଲର ମାକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ କ୍ୱାଣ୍ଟମ୍ ଇଫେକ୍ଟ ସହିତ ଯୋଡି ହୋଇ, CeO2 ନାନୋରେ ଅତିବାଇଗଣି ରଙ୍ଗର ଆଲୋକ ଉପରେ ପ୍ରତିଫଳନ ପ୍ରଭାବ ରହିଛି |ଅଧିକନ୍ତୁ, CeO2 ରେ ଭଲ ତାପଜ ସ୍ଥିରତା, ନିରାପତ୍ତା ଏବଂ ଅଣ-ବିଷାକ୍ତତା, ପ୍ରଚୁର ଉତ୍ସ ଏବଂ ସ୍ୱଳ୍ପ ପ୍ରସ୍ତୁତି ମୂଲ୍ୟ ରହିଛି, ତେଣୁ ଏହା ବିଭିନ୍ନ କ୍ଷେତ୍ରରେ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଉଥିବା ଏକ ନୂତନ ପ୍ରକାରର ଅଲ୍ଟ୍ରା-ବାଇଗଣି ଶୋଷକ ହେବ ବୋଲି ଆଶା କରାଯାଏ |
ସଂରକ୍ଷଣ ଅବସ୍ଥା:
ନାନୋ ସିରିୟମ୍ (IV) ଅକ୍ସାଇଡ୍ / CeO2 ସିରିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ପାଉଡରକୁ ସିଲ୍ କରି ରଖିବା ଉଚିତ, ହାଲୁକା, ଶୁଖିଲା ସ୍ଥାନରୁ ଦୂରେଇ ରହିବା |କୋଠରୀ ତାପମାତ୍ରା ସଂରକ୍ଷଣ ଠିକ ଅଛି |