ਹਾਈ-ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਦੇ ਕੈਟਾਲਕਾਂ, ਚਾਲਕਤਾਤਮਕ, ਉੱਚਿਤ ਚਾਲ-ਚਲਣ, ਸ਼ਰਾਬਰੀ, ਚੁੰਬਕੀ, ਥਰਮਲ ਅਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਸੰਪਤੀਆਂ ਕਾਰਨ ਨੈਨੋ ਮੈਟਲ ਕਾਪਪਰ ਪਾ powder ਡਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ ਤੇ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ.

ਨੈਨੋ-ਅਲਮੀਨੀਅਮ, ਤਾਂਬੇ ਅਤੇ ਨਿਕਲ ਪਾ powderg ਬਰਾਂ ਕੋਲ ਬਹੁਤ ਸਰਗਰਮ ਸਤਹ ਹੁੰਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਆਕਸੀਜਨ-ਮੁਕਤ ਸਥਿਤੀਆਂ ਦੇ ਅਧੀਨ ਪਾ powder ਡਰ ਦੇ ਤਾਪਮਾਨ ਦੇ ਹੇਠਾਂ ਸਿਰੇ ਦੇ ਹੇਠਾਂ ਲੇਪ ਲਗਾਏ ਜਾ ਸਕਦੇ ਹਨ. ਇਸ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਨੂੰ ਮਾਈਕ੍ਰੋਲੇਕਟ੍ਰਿਕ ਉਪਕਰਣਾਂ ਦੇ ਉਤਪਾਦਨ ਤੇ ਲਾਗੂ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਧਾਤਾਂ ਅਤੇ ਗੈਰ-ਧਾਤਾਂ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਇਕ ਕਰੀਮ ਪਰਤ ਹੋਣ ਦੇ ਨਾਤੇ.

ਉੱਤਮ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਦੇ ਨਾਲ ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨਿਕ ਪੇਸਟ ਨੂੰ ਤਿਆਰ ਕਰਨ ਲਈ ਨੈਨੋ-ਕਾਪਰ ਪਾ powder ਡਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨਾ ਲਾਗਤ ਨੂੰ ਘਟਾਉਣ ਲਈ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ. ਇਹ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਮਾਈਕਰੋਲੇਕਟ੍ਰਿਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਦੇ ਅੱਗੇ ਦੀ ਸਥਾਪਨਾ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਤ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ.