Почему нанопорошок диоксида кремния можно использовать для ХМП?

Нанокремнезем имеет относительно низкую стоимость, хорошую диспергируемость, механическое истирание, высокую прочность и адгезию, хорошее пленкообразование, высокую проницаемость, высокую стойкость к атмосферным воздействиям и износу, малый размер частиц и твердость. Он также имеет такие преимущества, как умеренная, низкая вязкость, низкая адгезия и легкая очистка после полировки. Таким образом, это полировальный материал для технологии CMP с превосходными характеристиками.

Наночастицы SiO2 часто используются для прецизионной полировки металлов, сапфира, монокристаллического кремния, стеклокерамики, световодных трубок и других поверхностей. Размер нанооксида кремния составляет менее 100 нм, он имеет большую удельную поверхность, высокую дисперсность и проницаемость, поэтому слой повреждения на поверхности полированной заготовки чрезвычайно мал; кроме того, твердость наночастиц кремнезема аналогична твердости кремниевых пластин. Поэтому его также часто используют для полировки полупроводниковых кремниевых пластин.

Преимущества нанопорошка SiO2 при применении CMP:

1. Полировка — это использование однородных наночастиц SiO2 и других материалов, которые не наносят физического повреждения обрабатываемым деталям и имеют высокую скорость. Использование частиц, таких как коллоидный кремнезем, с однородным и большим размером частиц, позволяет достичь цели высокоскоростной полировки.

2. Не подвергает оборудование коррозии и имеет высокие показатели безопасности.

3. Достижение высокой плоскостности шлифовальной обработки.

4. Эффективно уменьшите царапины на поверхности после полировки и уменьшите шероховатость поверхности после полировки.