Почему нанопорошок диоксида кремния можно использовать для CMP?

Нанокремнезем имеет относительно низкую стоимость и хорошую диспергируемость, механическое истирание, высокую прочность и адгезию, хорошее пленкообразование, высокую проницаемость, высокую атмосферостойкость и износостойкость, малый размер частиц, твердость.Он также имеет преимущества умеренной, низкой вязкости, низкой адгезии и легкой очистки после полировки.Таким образом, это полировальный материал для технологии CMP с отличными характеристиками.

Наночастицы SiO2 часто используются для прецизионной полировки металлов, сапфиров, монокристаллического кремния, стеклокерамики, световодных трубок и других поверхностей.Размер нанооксида кремния составляет менее 100 нм, он имеет большую удельную площадь поверхности, высокую диспергируемость и проницаемость, поэтому слой повреждения на поверхности полированной заготовки чрезвычайно мал;кроме того, твердость наночастиц кремнезема аналогична твердости кремниевых пластин.Поэтому его также часто используют для полировки полупроводниковых кремниевых пластин.

Преимущества нано порошка SiO2 в применении ХМП:

1. Полировка - это использование однородных наночастиц SiO2 и других материалов, которые не вызывают физического повреждения обрабатываемых деталей, а скорость высокая.Использование частиц, таких как коллоидный кремнезем с однородным и большим размером частиц, может достичь цели высокоскоростной полировки.

2. Не вызывает коррозии оборудования и обладает высокими показателями безопасности.

3. Добейтесь высокой плоскостности шлифовальной обработки.

4. Эффективно уменьшить царапины на поверхности после полировки и уменьшить шероховатость поверхности после полировки.