CMP සඳහා සිලිකන් ඩයොක්සයිඩ් නැනෝ කුඩු භාවිතා කළ හැක්කේ ඇයි?

නැනෝ-සිලිකා සාපේක්ෂ අඩු පිරිවැය, සහ හොඳ විසර්ජනය, යාන්ත්රික උල්ෙල්ඛ, ඉහළ ශක්තිය සහ ඇලවීම, හොඳ පටල සෑදීම, ඉහළ පාරගම්යතාව, ඉහළ කාලගුණය සහ ඇඳුම් ප්රතිරෝධය, කුඩා අංශු ප්රමාණය, දෘඪතාව.එය මධ්යස්ථ, අඩු දුස්ස්රාවීතාවය, අඩු ඇලවීම සහ ඔප දැමීමෙන් පසු පහසුවෙන් පිරිසිදු කිරීමේ වාසි ද ඇත.මේ අනුව එය විශිෂ්ට කාර්ය සාධනයක් සහිත CMP තාක්ෂණය සඳහා ඔප දැමීමේ ද්රව්යයකි.

SiO2 නැනෝ අංශුව බොහෝ විට ලෝහ, නිල් මැණික්, මොනොක්‍රිස්ටලීන් සිලිකන්, වීදුරු-සෙරමික්, සැහැල්ලු මාර්ගෝපදේශක නල සහ අනෙකුත් මතුපිට නිරවද්‍ය ඔප දැමීම සඳහා යොදා ගනී.නැනෝ සිලිකන් ඔක්සයිඩ් ප්‍රමාණය 100nm ට අඩු වන අතර, එය විශාල නිශ්චිත පෘෂ්ඨ වර්ගඵලයක්, ඉහළ විසරණය සහ පාරගම්යතාව ඇති බැවින් ඔප දැමූ වැඩ කොටසෙහි මතුපිට ඇති හානිය ස්ථරය අතිශයින් කුඩා වේ;මීට අමතරව, සිලිකා නැනෝ අංශුවල දෘඪතාව සිලිකන් වේෆර්වලට සමාන වේ.එමනිසා, එය බොහෝ විට අර්ධ සන්නායක සිලිකන් වේෆර් ඔප දැමීම සඳහා ද භාවිතා වේ.

CMP යෙදුමේ නැනෝ SiO2 කුඩු වල වාසි:

1. ඔප දැමීම යනු SiO2 සහ අනෙකුත් ද්‍රව්‍යවල ඒකාකාර නැනෝ අංශු භාවිතා කිරීම වන අතර එමඟින් සැකසූ කොටස් වලට භෞතික හානියක් සිදු නොවන අතර වේගය වේගවත් වේ.ඒකාකාර හා විශාල අංශු ප්‍රමාණයෙන් යුත් කොලොයිඩල් සිලිකා වැනි අංශු භාවිතා කිරීමෙන් අධිවේගී ඔප දැමීමේ අරමුණ සාක්ෂාත් කරගත හැකිය.

2. එය උපකරණ විඛාදනයට ලක් නොවන අතර ඉහළ ආරක්ෂිත කාර්ය සාධනයක් ඇත.

3. ඉහළ පැතලි ඇඹරුම් සැකසුම් සාක්ෂාත් කර ගැනීම.

4. ඔප දැමීමෙන් පසු මතුපිට සීරීම් ඵලදායී ලෙස අඩු කිරීම සහ ඔප දැමීමෙන් පසු මතුපිට රළු බව අඩු කිරීම.