Ultra fin 200nm 99,9 % silicijev prah za kompozite silicijevega karbida

Specifikacija čistega silicijevega prahu:

Velikost delcev: 30-50nm, 80-100nm, 100-200nm, 300-500nm, 1-2um in večji silicijev prah

Čistost: 99% -99,99%

Oblika: sferična in amorfna.

Uporaba čistega silicijevega prahu:

Ultrafini silicijevi materiali so pritegnili veliko pozornosti na področjih sončnih celic, diagnostike in zdravljenja živih bolezni, fotohipertermije, biosenzorjev, litij-ionskih baterij itd. Raziskovalci so jim bili naklonjeni zaradi velike teoretične specifične zmogljivosti shranjevanja litija, primernega potenciala za vstavljanje litija, stabilnosti v elektrolitu in obilne vsebnosti silicija v zemeljski skorji.

Podjetje Guangzhou Hongwu Material Technology Co., Ltd je zavezano zagotavljanju visokokakovostnih nanodelcev elementov po najbolj razumni ceni za stranke, ki se ukvarjajo z nanotehnološkimi raziskavami in so oblikovale celoten cikel raziskovanja, proizvodnje, trženja in poprodajnega servisiranja.Izdelki podjetja so bili prodani v številne države po vsem svetu.

Naši nanodelci elementov (kovinski, nekovinski in plemenite kovine) so v prahu nanometrskega merila.Na zalogi imamo široko paleto velikosti delcev od 10 nm do 10 um, na zahtevo pa lahko prilagodimo tudi dodatne velikosti.

Večino nanodelcev kovinskih zlitin lahko proizvedemo na osnovi elementov Cu, Al, Si, Zn, Ag, Ti, Ni, Co, Sn, Cr, Fe, Mg, W, Mo, Bi, Sb, Pd, Pt, P, Se, Te itd. razmerje elementov je nastavljivo, na voljo pa sta tudi binarna in ternarna zlitina.

Če iščete sorodne izdelke, ki še niso na našem seznamu izdelkov, vam je naša izkušena in predana ekipa pripravljena pomagati.Ne oklevajte in nas kontaktirajte.