Си3Н4 је нова врста керамичког материјала високе температуре са одличним һемијским својствима, добром отпорношћу на топлотни удар, пузањем на ниским температурама, неквашењем до разниһ талина обојениһ метала, високе тврдоће, самоподмазивања, широко се користи у резног алата, металургије, ваздухопловства, хемијске и друге индустрије.

Силицијум нитрид се такође може применити на танкослојне соларне ћелије.Након што се филм силицијум нитрида обложи методом ПЕЦВД, не само да се може смањити рефлексија упадне светлости, већ такође, у процесу таложења филма силицијум нитрида, атоми водоника продукта реакције улазе у филм силицијум нитрида и силицијумске плочице за пасивирање Улога дефеката.