Si3N4 är en ny typ av högtemperaturstruktur keramiskt material med utmärkta kemiska egenskaper, god termisk chockbeständighet, lågtemperaturkrypning, icke-vätande till en mängd olika icke-järnmetallsmältor, hög hårdhet, självsmörjning, har använts i stor utsträckning i skärande verktyg, metallurgi, flyg, kemiska och andra industrier.

Kiselnitrid kan även appliceras på tunnfilmssolceller.Efter att kiselnitridfilmen pläterats med PECVD-metoden kan inte bara reflektionen av infallande ljus minskas, utan också, i avsättningsprocessen för kiselnitridfilmen, kommer väteatomerna i reaktionsprodukten in i kiselnitridfilmen och kiselskiva att passivera Defekternas roll.