లక్షణాలు మరియు లక్షణాలు: సీసియం టంగ్‌స్టన్ ఆక్సైడ్ తక్కువ రెసిస్టివిటీ మరియు తక్కువ ఉష్ణోగ్రత సూపర్ కండక్టివిటీతో ఆక్సిజన్ ఆక్టాహెడ్రాన్ యొక్క ప్రత్యేక నిర్మాణంతో ఒక రకమైన నాన్-స్టోయికియోమెట్రిక్ ఫంక్షనల్ సమ్మేళనం.ఇది అద్భుతమైన సమీపంలో ఇన్‌ఫ్రారెడ్ (NIR) షీల్డింగ్ పనితీరును కలిగి ఉంది, కాబట్టి ఇది తరచుగా భవనాలు మరియు ఆటోమోటివ్ గ్లాస్ కోసం థర్మల్ ఇన్సులేషన్ ఉత్పత్తుల అభివృద్ధిలో హీట్ షీల్డింగ్ మెటీరియల్‌గా ఉపయోగించబడుతుంది.

నానో సీసియం టంగ్‌స్టన్ కాంస్య (Cs0.33WO3) అత్యుత్తమ సమీప-ఇన్‌ఫ్రారెడ్ శోషణ లక్షణాలను కలిగి ఉంది.అధ్యయనాల ప్రకారం, సాధారణంగా 950 nm వద్ద 10% కంటే తక్కువ ప్రసారాన్ని సాధించడానికి 2g/㎡ పూతని జోడించడం మరియు అదే సమయంలో, ఇది 550 nm వద్ద 70% కంటే ఎక్కువ ప్రసారాన్ని సాధించగలదు (70% సూచిక చాలా వరకు ప్రాథమిక సూచిక. అత్యంత పారదర్శక చిత్రాలు).

నానో సీసియం టంగ్‌స్టన్ ఆక్సైడ్ పౌడర్ ద్వారా తయారు చేయబడిన చలనచిత్రం 1100 nm కంటే ఎక్కువ తరంగదైర్ఘ్యంతో సమీప-ఇన్‌ఫ్రారెడ్ కాంతిని రక్షించగలదు.Cs0.33WO3 ఫిల్మ్ గాజు ఉపరితలంపై పూత పూయబడిన తర్వాత, దాని సమీప-ఇన్‌ఫ్రారెడ్ షీల్డింగ్ పనితీరు మరియు థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పనితీరు CsxWO3లోని సీసియం కంటెంట్‌తో పెరుగుతుంది.

అటువంటి పూత లేని గాజుతో పోలిస్తే CsxWO3 ఫిల్మ్‌తో పూసిన గాజు, థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పనితీరు ఉత్తమమైనది మరియు థర్మల్ ఇన్సులేషన్ ఉష్ణోగ్రత వ్యత్యాసం 13.5 ℃కి చేరుకుంటుంది.

అందువల్ల, ఇది మరింత అద్భుతమైన సమీప-ఇన్‌ఫ్రారెడ్ షీల్డింగ్ పనితీరును కలిగి ఉంది మరియు ఆర్కిటెక్చరల్ మరియు ఆటోమోటివ్ గ్లాస్ ఇన్సులేషన్ రంగంలో స్మార్ట్ విండోగా విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుందని భావిస్తున్నారు.