การใช้อนุภาคนาโนซีเรียมไดออกไซด์/CeO2:

(1) ผงนาโนซีเรียมไดออกไซด์สำหรับการขัดเงา: ปัจจุบันนาโนซีเรียมออกไซด์เป็นสารขัดถูที่ใช้บ่อยที่สุดสำหรับการขัดกระจกมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในการประมวลผลแก้วและส่วนประกอบออปติกที่มีความแม่นยำ และได้รับการศึกษาอย่างกว้างขวางสิ่งที่ส่งผลต่อผลการขัดเงาในผงขัดเงาคือขนาดอนุภาค ความบริสุทธิ์ และความแข็งของ CeO2ขนาดอนุภาคเป็นปัจจัยหลักขนาดอนุภาคขนาดใหญ่เหมาะสำหรับการขัดเงาชิ้นส่วนออปติคัลทั่วไปและเลนส์แว่นตา ในขณะที่ขนาดอนุภาคขนาดเล็กเหมาะสำหรับการขัดเลนส์ออพติคอลละเอียดด้วยความเร็วสูง

ตัวอย่างเช่น: ในฐานะที่เป็นวัสดุอนินทรีย์พื้นฐานที่พบมากที่สุด แก้วจึงถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในพื้นผิวกระจกของฮาร์ดดิสก์คอมพิวเตอร์ ปากกา โน้ตบุ๊ก ชิปกล้องดิจิทัล เลนส์ออปติคัลที่มีความแม่นยำสูง หน้าต่างออปติคอล และส่วนประกอบออปติกอื่นๆ ตลอดจนส่วนประกอบการสื่อสารด้วยแสง จอแบนและอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูงอื่นๆพื้นผิวกระจกที่เรียบเป็นพิเศษ มีความหยาบในระดับนาโนเมตร พื้นผิวกระจกเรียบโดยไม่มีข้อบกพร่องระดับไมโครได้กลายเป็นปัจจัยสำคัญที่เกี่ยวข้องกับประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์ไฮเทคเหล่านี้การขัดเชิงกลด้วยเคมี (CMP) เป็นส่วนสำคัญของการประมวลผลซิลิคอนเวเฟอร์และกระบวนการสะสมและการกัดทั้งหมดในการผลิตวงจรรวมใช้ผลการขัดเชิงกลของอนุภาคขัดละเอียดพิเศษในสารละลาย CMP และผลการกัดกร่อนทางเคมีของสารละลายแผ่นออปติคัลสร้างพื้นผิวที่เรียบสูงบนเวเฟอร์ซิลิคอนซึ่งมีการสร้างรูปแบบวงจรปัจจุบันเป็นเทคโนโลยีใหม่ที่สามารถให้การแบนทั่วโลกในกระบวนการผลิตของวงจร VLSI

(2) นาโนซีเรียมไดออกไซด์ที่ใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยามีประสิทธิภาพรีดอกซ์ที่ดีผงนาโนซีเรียมออกไซด์ไม่เพียงแต่มีหน้าที่กักเก็บออกซิเจนและปล่อยออกซิเจนที่ไม่เหมือนใครเท่านั้น แต่ยังเป็นตัวเร่งปฏิกิริยาออกไซด์ที่แอคทีฟมากที่สุดในชุดออกไซด์ของธาตุหายากอีกด้วยดังนั้นจึงสามารถใช้นาโนเซอเรียเป็นสารเสริมเพื่อปรับปรุงประสิทธิภาพการเร่งปฏิกิริยาของตัวเร่งปฏิกิริยาได้หลายครั้ง

(3) อนุภาคนาโนของซีเรียมออกไซด์ที่ใช้ในอุตสาหกรรมเหล็ก: การใช้นาโนซีเรียมออกไซด์เป็นสารเคลือบผิวและสารเติมแต่งสามารถปรับปรุงความต้านทานการเกิดออกซิเดชัน การกัดกร่อนที่ร้อน การกัดกร่อนของน้ำ และการหลอมโลหะของโลหะผสมที่มีอุณหภูมิสูงและเหล็กกล้าไร้สนิม และยังสามารถเป็น ใช้เป็นหัวเชื้อสำหรับเหล็กดัด

(4) ผงซีเรียมออกไซด์นาโนสามารถใช้ในผลิตภัณฑ์ดูดซับรังสีอัลตราไวโอเลตได้ เนื่องจากนาโน CeO2 มีระดับพลังงานการเปลี่ยนแปลงทางอิเล็กทรอนิกส์สูง มีความไวแสงที่ดีเยี่ยมต่อการดูดกลืนแสงอัลตราไวโอเลตเมื่อรวมกับเอฟเฟกต์ขนาดเล็ก เอฟเฟกต์พื้นผิวที่มีความจำเพาะสูง และเอฟเฟกต์ควอนตัมระดับมหภาคของอนุภาคนาโน CeO2 นาโนจึงมีเอฟเฟกต์การกระเจิงและการสะท้อนที่รุนแรงต่อแสงอัลตราไวโอเลตยิ่งไปกว่านั้น CeO2 ยังมีเสถียรภาพทางความร้อนที่ดี มีความปลอดภัยและไม่เป็นพิษ มีทรัพยากรมากมาย และต้นทุนการเตรียมการต่ำ ดังนั้นจึงคาดว่าจะกลายเป็นตัวดูดซับรังสีอัลตราไวโอเลตชนิดใหม่ที่นำไปใช้ในด้านต่างๆ