Đặc điểm kỹ thuật:
Tên | Xeri(IV) oxit, Ceric Dioxide, bột nano xeri oxit |
Công thức | CeO2 |
Số CAS | 1306-38-3 |
Kích thước hạt | 50nm |
độ tinh khiết | 99,9% |
Vẻ bề ngoài | Bột màu vàng nhạt |
Bưu kiện | 1kg, 5kg mỗi túi hoặc theo yêu cầu |
Ứng dụng chính | Chất xúc tác, đánh bóng, phụ gia, hấp thụ tia cực tím, v.v. |
phân tán | Có thể được tùy chỉnh |
Sự miêu tả:
Ứng dụng của hạt nano xeri dioxit/CeO2:
(1) Bột nano Ceric dioxide để đánh bóng: Nano xeri oxit hiện là chất mài mòn được sử dụng phổ biến nhất để đánh bóng kính. Nó được sử dụng rộng rãi trong xử lý chính xác các thành phần thủy tinh và quang học và đã được nghiên cứu rộng rãi. Điều ảnh hưởng đến hiệu quả đánh bóng trong bột đánh bóng là kích thước hạt, độ tinh khiết và độ cứng của CeO2. Kích thước hạt là yếu tố chính. Kích thước hạt lớn phù hợp để đánh bóng các thành phần quang học thông thường và thấu kính đeo mắt, trong khi kích thước hạt nhỏ phù hợp để đánh bóng tốc độ cao của thấu kính quang học tốt.
Ví dụ: Là vật liệu vô cơ cơ bản và phổ biến nhất, thủy tinh được sử dụng rộng rãi trong đế thủy tinh đĩa cứng máy tính bút, chip máy ảnh kỹ thuật số, ống kính quang học siêu chính xác, cửa sổ quang học và các thành phần quang học khác, cũng như các thành phần truyền thông quang học, màn hình phẳng và các thiết bị điện tử tiên tiến khác. Siêu mịn, độ nhám dưới nanomet, bề mặt kính phẳng không có khuyết tật vi mô đã trở thành yếu tố quan trọng liên quan đến hiệu suất của các sản phẩm công nghệ cao này. Đánh bóng cơ học hóa học (CMP) là một phần quan trọng của quá trình xử lý tấm bán dẫn silicon cũng như toàn bộ quá trình lắng đọng và ăn mòn trong sản xuất mạch tích hợp. Nó sử dụng hiệu ứng đánh bóng cơ học của các hạt mài mòn siêu mịn trong bùn CMP và hiệu ứng ăn mòn hóa học của bùn. Đĩa quang tạo thành một bề mặt rất phẳng trên tấm wafer silicon mà trên đó mẫu mạch đã được tạo ra. Nó hiện là một công nghệ mới có thể mang lại sự làm phẳng toàn cầu trong quá trình sản xuất mạch VLSI.
(2) Nano-xerium dioxide được sử dụng làm chất xúc tác có hiệu suất oxy hóa khử tốt. Bột nano oxit xeri không chỉ có chức năng lưu trữ và giải phóng oxy độc đáo mà còn là chất xúc tác oxit hoạt động mạnh nhất trong dòng oxit đất hiếm. Do đó, nano ceria có thể được sử dụng làm tác nhân phụ trợ để cải thiện hiệu suất xúc tác của chất xúc tác trong nhiều trường hợp.
(3) Hạt nano oxit ceric được sử dụng trong ngành thép: Sử dụng oxit nano-xerium làm lớp phủ và phụ gia có thể cải thiện khả năng chống oxy hóa, ăn mòn nóng, ăn mòn nước và lưu hóa của hợp kim nhiệt độ cao và thép không gỉ, và cũng có thể được sử dụng làm chất chế phẩm cho sắt dẻo.
(4) Bột nano xeri oxit có thể được sử dụng trong các sản phẩm hấp thụ tia cực tím vì nano CeO2 có mức năng lượng chuyển tiếp điện tử dồi dào, độ nhạy quang học tuyệt vời để hấp thụ tia cực tím. Cùng với hiệu ứng kích thước nhỏ, hiệu ứng bề mặt riêng cao và hiệu ứng lượng tử vĩ mô của hạt nano, nano CeO2 có hiệu ứng tán xạ và phản xạ mạnh đối với tia cực tím. Hơn nữa, CeO2 có độ ổn định nhiệt tốt, an toàn và không độc hại, nguồn tài nguyên dồi dào và chi phí chuẩn bị thấp nên được kỳ vọng sẽ trở thành loại chất hấp thụ tia cực tím mới được ứng dụng trong nhiều lĩnh vực khác nhau.
Điều kiện bảo quản:
Nên bảo quản bột Nano Cerium(IV) oxit/CeO2 ở nơi kín, tránh ánh sáng, nơi khô ráo. Bảo quản ở nhiệt độ phòng là ok.